全文获取类型
收费全文 | 30302篇 |
免费 | 2759篇 |
国内免费 | 1672篇 |
专业分类
电工技术 | 937篇 |
综合类 | 1911篇 |
化学工业 | 7171篇 |
金属工艺 | 2003篇 |
机械仪表 | 866篇 |
建筑科学 | 1769篇 |
矿业工程 | 1080篇 |
能源动力 | 1127篇 |
轻工业 | 3825篇 |
水利工程 | 555篇 |
石油天然气 | 1410篇 |
武器工业 | 110篇 |
无线电 | 3223篇 |
一般工业技术 | 3527篇 |
冶金工业 | 2660篇 |
原子能技术 | 271篇 |
自动化技术 | 2288篇 |
出版年
2024年 | 60篇 |
2023年 | 400篇 |
2022年 | 740篇 |
2021年 | 884篇 |
2020年 | 921篇 |
2019年 | 837篇 |
2018年 | 777篇 |
2017年 | 990篇 |
2016年 | 1062篇 |
2015年 | 1141篇 |
2014年 | 1795篇 |
2013年 | 1870篇 |
2012年 | 2257篇 |
2011年 | 2366篇 |
2010年 | 1640篇 |
2009年 | 1684篇 |
2008年 | 1423篇 |
2007年 | 1831篇 |
2006年 | 1676篇 |
2005年 | 1445篇 |
2004年 | 1364篇 |
2003年 | 1262篇 |
2002年 | 1020篇 |
2001年 | 855篇 |
2000年 | 810篇 |
1999年 | 538篇 |
1998年 | 464篇 |
1997年 | 381篇 |
1996年 | 351篇 |
1995年 | 323篇 |
1994年 | 252篇 |
1993年 | 205篇 |
1992年 | 202篇 |
1991年 | 192篇 |
1990年 | 191篇 |
1989年 | 159篇 |
1988年 | 66篇 |
1987年 | 42篇 |
1986年 | 34篇 |
1985年 | 31篇 |
1984年 | 28篇 |
1983年 | 14篇 |
1982年 | 27篇 |
1981年 | 21篇 |
1980年 | 15篇 |
1979年 | 20篇 |
1978年 | 8篇 |
1977年 | 7篇 |
1976年 | 8篇 |
1975年 | 7篇 |
排序方式: 共有10000条查询结果,搜索用时 31 毫秒
991.
产品的多元化是企业生存发展的需要,硅铝铁合金是炼钢过程中应用比较广泛的一种复合强脱氧剂,而粉煤灰用于提取硅铝铁合金是可行的,可以更好的改善环境,发展循环经济。 相似文献
992.
993.
994.
分析了不同底吹流量和氮氩切换时间对钢中氮含量的影响,得出采用吹氧量在70%进行氮氩切换的底吹模式或者通过小流量底吹氮(不大于0.077m3/(min·t))在吹氧85%切换的底吹模式,钢水叫(N)可以控制在30×10^-6以下;同时通过对冶炼过程和出钢过程的分析,认为转炉最好采用沸腾方式出钢,如果在出钢过程中需要加脱氧... 相似文献
995.
996.
997.
衬底对PECVD法生长氢化纳米硅薄膜的影响 总被引:1,自引:1,他引:0
用等离子体增强化学汽相沉积(PECVD)法,在玻璃和单晶Si衬底上分别制备了氢化纳米硅薄膜,对在相同工艺条件下的薄膜进行了对比研究,即用Raman散射谱研究了薄膜的晶粒平均大小和晶态比;用台阶仪测试了薄膜厚度;用X射线衍射谱和原子力显微镜对薄膜微结构和形貌进行了对比研究,发现所制备薄膜的微观结构有很大的差异。相同工艺条件下,在玻璃衬底上生长的薄膜,表面粗糙度小于单晶Si衬底上的薄膜,而晶化程度低于单晶Si衬底。掺杂使微结构发生了变化,掺P促进晶化,掺B促进非晶化,对此实验结果给出了定性的分析。 相似文献
998.
本文采用中频孪生靶非平衡磁控溅射技术在不同氮气流量比例的条件下制备出氮化硅薄膜。利用傅里叶变换红外光谱仪(FTIR)、X射线衍射仪(XRD)、原子力显微镜(AFM)、椭偏仪等研究了氮气流量比率对氮化硅薄膜的微观结构、表面形貌、沉积速率、折射率的影响。结果表明:中频孪生非平衡磁控溅射技术制备的薄膜为非晶态氮化硅。随着氮气流量比率的增加,Si-N键红外光谱吸收带向低波数漂移,薄膜的沉积速率降低,表面结构更为光滑致密,氮化硅薄膜的折射率降低。薄膜的硬度和杨氏模量分别达到22和220GPa左右。 相似文献
999.
强碱弱酸盐溶液对单晶硅太阳能电池表面织构化的影响 总被引:1,自引:0,他引:1
对晶向为(100)的p型单晶硅片进行表面刻蚀,制作减反射绒面。本实验是在传统氢氧化钠-异丙醇混合液中分别加入不同浓度的醋酸钠溶液、硅酸钠溶液和碳酸钠溶液对单晶硅片进行刻蚀。实验发现:分别加入醋酸钠溶液、碳酸钠溶液并没有在降低表面反射率方面起到很大作用,而只有加入硅酸钠溶液降低了表面反射率,有利于形成较好的腐蚀绒面。因此... 相似文献
1000.